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金刚石行业专用质量流量控制器、特气气路到货!

更新时间:2023-07-31   点击次数:614次

CVD(化学气相沉积)是一种常用的材料制备技术,它可以通过在高温下使气体分子和表面反应来沉积材料。


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特气气路面板把485站号给用户设置好,做好保压、氦检,用户拿到设备后可以直接上机使用。

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模拟型和数字型的气体质量流量控制器主要是通过0-5V、4-20mA信号或RS485 modbus协议,来进行数据通信,目前在PE、CVD真空设备中使用,等离子体增强化学的气相沉积法。这种方法有很多优点,比如成膜质量好等。PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很。